合光光掩模科技（安徽）有限公司成立于2023年4月，坐落于“大湖名城，創(chuàng)新高地”安徽省省會合肥市新橋科創(chuàng)示范區(qū)，注冊資本14.33億元。公司擬投資50.1億元建立光掩模生產(chǎn)基地，占地面積49.5畝，總面積約3萬平方米，作為一家國內(nèi)獨立的高端光掩模生產(chǎn)制造商，公司主要從事掩模板的研發(fā)、設(shè)計、生產(chǎn)和銷售業(yè)務(wù)。
本項目是為合光光掩模科技（安徽）有限公司12英寸半導(dǎo)體制造工藝提供超純水解決方案。通過集成應(yīng)用M/CF預(yù)處理、反滲透（RO）、電去離子（EDI）以及PMB等核心工藝技術(shù)，構(gòu)建了一套高效的超純水制備系統(tǒng)。該系統(tǒng)可有效滿足客戶生產(chǎn)線對于超純水質(zhì)量及供應(yīng)穩(wěn)定性的嚴(yán)格要求，為客戶的半導(dǎo)體制造流程提供可靠的水質(zhì)保障。
